Sample supply device, inductively coupled plasma analysis system including said sample supply device, and sample supply method
WO2020148971
Art A1
23. Juli 2020
Anmelder: NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020148971
- Aktenzeichen
- EP19910465
- Anmeldetag
- 1. November 2019
- Veröffentlichung
- 23. Juli 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H05H1/26G01N21/73
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.
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Vertreten von
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