Method of forming film stacks with reduced defects

WO2020149904 Art A1 23. Juli 2020

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020149904
Aktenzeichen: EP19910663
Anmeldetag: 11. Oktober 2019
Veröffentlichung: 23. Juli 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/3205H01L21/768H01L27/11524H01L21/67C23C16/455H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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