Method for monitoring the state of an optical mirror of an euv projection exposure apparatus

WO2020151882 Art A1 30. Juli 2020

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020151882
Aktenzeichen: EP19835265
Anmeldetag: 17. Dezember 2019
Veröffentlichung: 30. Juli 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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