Resin composition for release paper or release film, and release paper or release film

WO2020153281 Art A1 30. Juli 2020

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020153281
Aktenzeichen: EP20744819
Anmeldetag: 20. Januar 2020
Veröffentlichung: 30. Juli 2020
Rechtsraum: WO
IPC: B32B27/00C08F20/28C08K5/05C08L33/14C08L61/28C08L67/00C08L83/06C09D133/14C09D161/28C09D183/04C09K3/00D21H19/24C09D7/20C09D7/63D21H27/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

1.545 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Papier- & Zellstofftechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von