Actinic light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern formation method, and electronic device manufacturing method

WO2020158337 Art A1 6. August 2020

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020158337
Aktenzeichen: EP20749299
Anmeldetag: 10. Januar 2020
Veröffentlichung: 6. August 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C09K3/00G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik

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