Laser annealing method, laser annealing device, and crystallized silicon film substrate

WO2020158424 Art A1 6. August 2020

Anmelder: V TECHNOLOGY CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020158424
Aktenzeichen: EP20748415
Anmeldetag: 16. Januar 2020
Veröffentlichung: 6. August 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: V TECHNOLOGY CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 V Technology

V Technology ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für Displays und Halbleiter. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik, ergänzt um Fertigungs- und Messtechnik. Anmeldungen laufen von 2005 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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