Valve device, flow rate control method using valve device, fluid control device, semiconductor production method, and semiconductor production device

WO2020158459 Art A1 6. August 2020

Anmelder: FUJIKIN INCORPORATED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020158459
Aktenzeichen: EP20748231
Anmeldetag: 17. Januar 2020
Veröffentlichung: 6. August 2020
Rechtsraum: WO
IPC: F16K37/00F16K7/16F16K7/17F16K31/02F16K31/122

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIKIN INCORPORATED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujikin

Der Anmelder ist ein japanischer Hersteller von Fluidsteuerungs- und Ventiltechnik für die Halbleiterfertigung. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Maschinenelemente und Fluidtechnik sowie auf Steuerungs- und Regelungstechnik und Messtechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

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Fachgebiete

Maschinenelemente & Fluidtechnik

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