Composition for forming release layer for slit die coating, and release layer

WO2020158521 Art A1 6. August 2020

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020158521
Aktenzeichen: EP20749219
Anmeldetag: 22. Januar 2020
Veröffentlichung: 6. August 2020
Rechtsraum: WO
IPC: B05D1/26B05D5/00B32B27/00C08G73/06C08K5/42C08L33/16C09D179/04C08L79/04B32B37/26

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

2.994 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Verfahrens- & Trenntechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von