Compound, resin, composition, method for forming resist pattern, method for forming circuit pattern and method for purifying resin
WO2020158931
Art A1
6. August 2020
Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020158931
- Aktenzeichen
- EP20747637
- Anmeldetag
- 31. Januar 2020
- Veröffentlichung
- 6. August 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C07C39/16C07C39/17C07C43/205C07C43/215C07C43/23C07C43/263C07C43/295C07C69/54C07C69/712C07C69/96C07C271/48C08G8/00G03F7/039G03F7/11G03F7/20C07D303/23C07D303/24
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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