Correcting Component Failures in Ion Implant Semiconductor Manufacturing Tool
WO2020159730
Art A1
6. August 2020
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020159730
- Aktenzeichen
- EP20748803
- Anmeldetag
- 17. Januar 2020
- Veröffentlichung
- 6. August 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G05B23/02G05B19/418G06N20/00H01J37/317
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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