Device and method for determining placements of pattern elements of a reflective photolithographic mask in the operating environment thereof

WO2020161235 Art A1 13. August 2020

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020161235
Aktenzeichen: EP20704499
Anmeldetag: 6. Februar 2020
Veröffentlichung: 13. August 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G02B21/36G03F1/84G03F1/24G03F1/38G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

2.391 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von