Charged particle beam device
WO2020161795
Art A1
13. August 2020
Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020161795
- Aktenzeichen
- EP19914220
- Anmeldetag
- 5. Februar 2019
- Veröffentlichung
- 13. August 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/248H01J1/13H01J37/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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