Substrate processing tool capable of modulating one or more plasma temporally and/or spatially

WO2020163115 Art A1 13. August 2020

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020163115
Aktenzeichen: EP20752753
Anmeldetag: 28. Januar 2020
Veröffentlichung: 13. August 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/27C23C16/56C23C16/26C23C16/52C23C16/505H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von