Textured Silicon Semiconductor Processing Chamber Components
WO2020163427
Art A1
13. August 2020
Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION, SILFEX, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020163427
- Aktenzeichen
- EP20752858
- Anmeldetag
- 5. Februar 2020
- Veröffentlichung
- 13. August 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/32H01L21/3065
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- LAM RESEARCH CORPORATION
SILFEX, INC. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
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