Oxide semiconductor thin film, thin-film transistor, and sputtering target

WO2020166269 Art A1 20. August 2020

Anmelder: KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.) 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020166269
Aktenzeichen: EP20755540
Anmeldetag: 16. Januar 2020
Veröffentlichung: 20. August 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/786C23C14/08C23C14/34H01L21/28H01L21/363H01L29/24H01L29/417

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.)
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Kobe Steel

Japanischer Mischkonzern mit Sitz in Kobe, gegründet 1905. Tätigkeitsfelder umfassen Stahl- und Aluminiumerzeugnisse, Maschinenbau sowie Werkstofftechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von