Sputtering Target Material

WO2020166380 Art A1 20. August 2020

Anmelder: MITSUI MINING&SMELTING CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020166380
Aktenzeichen: EP20755210
Anmeldetag: 31. Januar 2020
Veröffentlichung: 20. August 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34B22F3/14C22C1/04C22C19/07C22C33/02C22C38/00G11B5/851

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUI MINING&SMELTING CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsui Mining & Smelting

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Nichteisenmetallen sowie der Herstellung von Materialien für die Elektronikindustrie.

902 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von