Mask blank, phase shift mask, method of manufacturing phase shift mask, and method of manufacturing semiconductor device

WO2020166475 Art A1 20. August 2020

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020166475
Aktenzeichen: EP20756451
Anmeldetag: 6. Februar 2020
Veröffentlichung: 20. August 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/32C23C14/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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