Resist Underlayer Film-Forming Composition Containing Radical Trapping Agent

WO2020166635 Art A1 20. August 2020

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020166635
Aktenzeichen: EP20755742
Anmeldetag: 13. Februar 2020
Veröffentlichung: 20. August 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C08K5/3435C08K5/372C08L101/02G03F7/11G03F7/20G03F7/26H01L21/027C08G63/58

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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