Selective deposition of silicon nitride

WO2020167972 Art A1 20. August 2020

Anmelder: ENTEGRIS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020167972
Aktenzeichen: EP20755720
Anmeldetag: 12. Februar 2020
Veröffentlichung: 20. August 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/34C23C16/455C23C16/02H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ENTEGRIS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Entegris

US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.

1.106 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von

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