Method for training machine learning model to determine optical proximity correction for mask

WO2020169303 Art A1 27. August 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020169303
Aktenzeichen: EP20702263
Anmeldetag: 24. Januar 2020
Veröffentlichung: 27. August 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/36G03F7/20G06N3/08G06N20/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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