Metal oxide film, semiconductor device, and method for evaluating metal oxide film
WO2020170065
Art A1
27. August 2020
Anmelder: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020170065
- Aktenzeichen
- EP20759721
- Anmeldetag
- 10. Februar 2020
- Veröffentlichung
- 27. August 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/08C01G15/00C01G19/00G01N23/20058G01N23/2055G02F1/1343G02F1/1368H01L21/20H01L21/203H01L21/336H01L27/32H01L29/786H01L51/50
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Semiconductor Energy Laboratory
Japanisches Forschungsunternehmen mit Sitz in Atsugi. Semiconductor Energy Laboratory (SEL) forscht an Halbleitertechnologien, Flüssigkristall- und OLED-Displays sowie Dünnschichttransistoren.
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