Polymer, resist composition containing said polymer, method for manufacturing member using same, pattern formation method, and method for forming reversal pattern

WO2020170555 Art A1 27. August 2020

Anmelder: TOYO GOSEI CO., LTD., OSAKA UNIVERSITY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020170555
Aktenzeichen: EP19916526
Anmeldetag: 6. Dezember 2019
Veröffentlichung: 27. August 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C08F220/38G03F7/004G03F7/038G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOYO GOSEI CO., LTD.
OSAKA UNIVERSITY
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Osaka University

Staatliche Universität in Osaka, Japan, eine der führenden Forschungsuniversitäten des Landes mit Schwerpunkten in Naturwissenschaften, Medizin und Ingenieurwesen.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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