Pretreatment method for dopant diffusion treatment and substrate treatment apparatus

WO2020170630 Art A1 27. August 2020

Anmelder: SCREEN HOLDINGS CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020170630
Aktenzeichen: EP20760116
Anmeldetag: 9. Januar 2020
Veröffentlichung: 27. August 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/225

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 SCREEN Holdings

Japanischer Technologiekonzern. SCREEN Holdings stellt Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie her, insbesondere Wafer-Reinigungs- und Beschichtungssysteme, sowie Druck- und Bildverarbeitungstechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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