Film-forming composition and method for producing semiconductor substrate

WO2020170934 Art A1 27. August 2020

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020170934
Aktenzeichen: EP20759670
Anmeldetag: 13. Februar 2020
Veröffentlichung: 27. August 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C08G77/60C08L83/16C09D183/16G03F7/075G03F7/11G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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