Method for producing semiconductor substrate, and composition

WO2020171006 Art A1 27. August 2020

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020171006
Aktenzeichen: EP20759463
Anmeldetag: 17. Februar 2020
Veröffentlichung: 27. August 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C08G77/60G03F7/075G03F7/20G03F7/36

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

2.270 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von