Method for producing semiconductor substrate and composition for producing semiconductor substrate

WO2020171054 Art A1 27. August 2020

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020171054
Aktenzeichen: EP20759607
Anmeldetag: 18. Februar 2020
Veröffentlichung: 27. August 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/312C08G77/48G03F7/11

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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