Photoresists for making euv patternable hard masks

WO2020172481 Art A1 27. August 2020

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020172481
Aktenzeichen: EP20759642
Anmeldetag: 21. Februar 2020
Veröffentlichung: 27. August 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/027G03F7/033C08F265/06C08F216/06C08F220/18C08F212/08C08F212/14G03F7/20G03F7/32H01L21/32

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von