Method for determining stochastic variation of printed patterns

WO2020173654 Art A1 3. September 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020173654
Aktenzeichen: EP20702786
Anmeldetag: 30. Januar 2020
Veröffentlichung: 3. September 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/36G03F7/20G03F9/00G03F1/00G06T7/00G06T5/50

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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