Target supply control apparatus and method in an extreme ultraviolet light source

WO2020173683 Art A1 3. September 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2020173683
Aktenzeichen
EP20704506
Anmeldetag
7. Februar 2020
Veröffentlichung
3. September 2020
Rechtsraum
WO
IPC
H05G2/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
ASML NETHERLANDS B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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