Mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2020179463 Art A1 10. September 2020

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020179463
Aktenzeichen: EP20765589
Anmeldetag: 20. Februar 2020
Veröffentlichung: 10. September 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/26G03F1/32G03F1/38G03F1/50G03F1/54G03F1/80

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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