Physical vapor deposition system and processes

WO2020180585 Art A1 10. September 2020

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020180585
Aktenzeichen: EP20766268
Anmeldetag: 27. Februar 2020
Veröffentlichung: 10. September 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C23C14/14C23C14/06C23C14/00G03F1/22

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.783 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von