Laminated aerosol deposition coating for aluminum components for plasma processing chambers

WO2020180853 Art A1 10. September 2020

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020180853
Aktenzeichen: EP20767073
Anmeldetag: 3. März 2020
Veröffentlichung: 10. September 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/32C23C24/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von