Radiation-sensitive resin composition and method for forming resist pattern

WO2020184343 Art A1 17. September 2020

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020184343
Aktenzeichen: EP20770587
Anmeldetag: 4. März 2020
Veröffentlichung: 17. September 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C08F212/14C08F220/10C08F220/30G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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