Reflection-type mask blank, reflection-type mask and method for manufacturing same, and method for manufacturing semiconductor device

WO2020184473 Art A1 17. September 2020

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020184473
Aktenzeichen: EP20770370
Anmeldetag: 6. März 2020
Veröffentlichung: 17. September 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G03F1/54C23C14/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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