Electrostatic Chuck For High Bias Radio Frequency (rf) Power Application in A Plasma Processing Chamber

WO2020185395 Art A1 17. September 2020

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020185395
Aktenzeichen: EP20770104
Anmeldetag: 25. Februar 2020
Veröffentlichung: 17. September 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/683H02N13/00H01J37/32B23Q3/15H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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