Developer and patterning method for photosensitive polyimide precursor

WO2020186585 Art A1 24. September 2020

Anmelder: Shenzhen Institutes of Advanced Technology 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020186585
Aktenzeichen: EP19919922
Anmeldetag: 15. April 2019
Veröffentlichung: 24. September 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/32G03F7/004C08L79/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shenzhen Institutes of Advanced Technology
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Shenzhen Institutes of Advanced Technology

Chinesisches Forschungsinstitut in Shenzhen unter der Chinesischen Akademie der Wissenschaften mit Schwerpunkten in Robotik, Biomedizintechnik und neuen Materialien.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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