A substrate container, a lithographic apparatus and a method using a lithographic apparatus

WO2020187473 Art A1 24. September 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020187473
Aktenzeichen: EP20702118
Anmeldetag: 28. Januar 2020
Veröffentlichung: 24. September 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01N21/01H01L21/673

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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