Verfahren zur Erfassung eines Zustandes eines Cvd-Reaktors unter Produktionsbedingungen

WO2020188087 Art A2 24. September 2020

Anmelder: AIXTRON SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020188087
Aktenzeichen: EP20714509
Anmeldetag: 20. März 2020
Veröffentlichung: 24. September 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/52C23C16/54C23C16/46C23C16/02C23C16/458

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: AIXTRON SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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