Sputtering target and production method for sputtering target

WO2020188987 Art A1 24. September 2020

Anmelder: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020188987
Aktenzeichen: EP20773486
Anmeldetag: 17. Januar 2020
Veröffentlichung: 24. September 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34H01L21/8239H01L27/105

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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