Mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2020189168 Art A1 24. September 2020

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020189168
Aktenzeichen: EP20772696
Anmeldetag: 20. Februar 2020
Veröffentlichung: 24. September 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/26G03F1/32G03F1/38G03F1/50G03F1/54G03F1/80G01N23/2273

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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