Plasma processing device, plasma processing method, and conductive member

WO2020189545 Art A1 24. September 2020

Anmelder: NOA LEADING CO., LTD., TOSHIBA MATERIALS CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020189545
Aktenzeichen: EP20773231
Anmeldetag: 13. März 2020
Veröffentlichung: 24. September 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: NOA LEADING CO., LTD.
TOSHIBA MATERIALS CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toshiba Materials

Toshiba Materials ist eine japanische Tochtergesellschaft des Toshiba-Konzerns, spezialisiert auf keramische und magnetische Werkstoffe. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie anorganische Chemie und Werkstoffe, ergänzt um Metallurgie. Anmeldungen erstrecken sich über die Jahre 2004 bis 2024.

411 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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