Thin film resist composition and method for manufacturing resist film using the same

WO2020193522 Art A1 1. Oktober 2020

Anmelder: MERCK PATENT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020193522
Aktenzeichen: EP20714524
Anmeldetag: 24. März 2020
Veröffentlichung: 1. Oktober 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MERCK PATENT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Merck KGaA

Deutsches Pharma- und Chemieunternehmen mit Sitz in Darmstadt. Aktiv in Biopharmazeutika, Life-Science-Technologien sowie elektronischen Materialien für Halbleiter- und Displayindustrie. Nicht zu verwechseln mit dem US-Unternehmen Merck & Co.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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