Sputtering target product and method for producing recycled sputtering target product

WO2020195030 Art A1 1. Oktober 2020

Anmelder: JX NIPPON MINING&METALS CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2020195030
Aktenzeichen
EP20777230
Anmeldetag
15. Januar 2020
Veröffentlichung
1. Oktober 2020
Rechtsraum
WO
IPC
C23C14/34B23K20/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
JX NIPPON MINING&METALS CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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