Photosensitive resin composition, method for forming resist pattern, and method for producing shaped object by plating

WO2020195285 Art A1 1. Oktober 2020

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020195285
Aktenzeichen: EP20777209
Anmeldetag: 13. Februar 2020
Veröffentlichung: 1. Oktober 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C08F220/20C08F220/36G03F7/027G03F7/033G03F7/20H01L21/60

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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