Actinic-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic-light-sensitive or radiation-sensitive film, patterning method, and method for manufacturing electronic device

WO2020195588 Art A1 1. Oktober 2020

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020195588
Aktenzeichen: EP20776734
Anmeldetag: 3. März 2020
Veröffentlichung: 1. Oktober 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C07D235/12C08K5/3447C08L101/12G03F7/004G03F7/039G03F7/20C07D263/57C07D277/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.764 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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