Substrate treatment device, method for manufacturing semiconductor device, and substrate supporting tool and method for treating same

WO2020196025 Art A1 1. Oktober 2020

Anmelder: KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2020196025
Aktenzeichen
EP20777482
Anmeldetag
16. März 2020
Veröffentlichung
1. Oktober 2020
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/31H01L21/324H01L21/683
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Kokusai Electric

Kokusai Electric ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Schwerpunkt Wärmebehandlungssysteme. Das Patentportfolio konzentriert sich fast vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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