Photosensitive resin composition, method for manufacturing resist pattern film, method for manufacturing plated formed object, and method for manufacturing tin-silver-plated formed object

WO2020196235 Art A1 1. Oktober 2020

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020196235
Aktenzeichen: EP20777956
Anmeldetag: 19. März 2020
Veröffentlichung: 1. Oktober 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C25D5/02G03F7/004G03F7/039G03F7/20G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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