Substrate for mask blank, substrate with conductive film, substrate with multilayer reflective film, reflective mask blank, reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2020196555 Art A1 1. Oktober 2020

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020196555
Aktenzeichen: EP20776544
Anmeldetag: 24. März 2020
Veröffentlichung: 1. Oktober 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C03C17/36G03F1/24G03F1/60

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik

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