Composition for forming resist underlayer film, resist underlayer film, method for forming resist underlayer film, method for producing patterned substrate, and compound

WO2020196854 Art A1 1. Oktober 2020

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020196854
Aktenzeichen: EP20776342
Anmeldetag: 27. März 2020
Veröffentlichung: 1. Oktober 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C07C39/23C07C211/54C08F38/00G03F7/11G03F7/20G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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