Sub-field control of a lithographic process and associated apparatus

WO2020200635 Art A1 8. Oktober 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020200635
Aktenzeichen: EP20709558
Anmeldetag: 5. März 2020
Veröffentlichung: 8. Oktober 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/70

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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